上海3nm光刻机（上海5nm光刻机）

简介：上海3nm光刻机是一款最新推出的高精度光刻设备，被广泛应用于半导体领域。其主要特点是能够实现极高的分辨率和制造精度，是实现3纳米级别芯片制造的重要工具。多级标题：1. 技术革新引领半导体行业...